互联网

英伟达CEO黄仁勋承认Blackwell芯片设计缺陷,感谢台积电协助恢复工作

来源:TechWeb 作者:Suky 2024-10-24 11:43:10 我要评论

10月24日消息,在10月23日的丹麦访问期间,英伟达CEO黄仁勋公开表示,公司最新的Blackwell芯片曾遭遇设计缺陷,尽管该芯片目前可

10月24日消息,在10月23日的丹麦访问期间,英伟达CEO黄仁勋公开表示,公司最新的Blackwell芯片曾遭遇设计缺陷,尽管该芯片目前可以正常使用,但其良率却很低。黄仁勋坦诚这一问题是“100%是英伟达的错”,并高度赞扬了台积电的协助,认为台积电的帮助使英伟达得以从这一挫折中快速恢复,并以“惊人的速度”恢复工作。

黄仁勋还谈到了欧盟在人工智能投资方面的情况。他指出,欧盟在AI投资上显著落后于美国和中国,这可能是制约欧盟在该领域发展的重要因素。

在丹麦,黄仁勋还推出了一台名为Gefion的新型超级计算机。这台超级计算机由英伟达与诺和诺德基金会、丹麦出口和投资基金合作打造,配备了1528个GPU,计划用于药物研发、疾病诊断、治疗和复杂的生命科学挑战等领域。黄仁勋对计算机辅助药物研发的未来充满信心,他预测“计算机辅助药物研发的时代必定会在十年内到来,这将是数字生物学的十年”。

此外,摩根士丹利对英伟达的未来收入潜力表示看好。该机构预计,英伟达2024年第四季度Blackwell芯片的收入将达到100亿美元,且利润率将很高。摩根士丹利认为,Blackwell芯片将成为英伟达未来收入的重要来源。(Suky)

 

转载请注明出处。

本站页面、图片和视频等资料部分由互联网编辑生成,版权归原创者所有,本网站只提供web页面服务,并不提供资源存储,若本站收录的页面无意侵犯了贵司版权,请 联系我们

网友点评
0相关评论