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5000亿韩元!三星(SAMSUNG)已拿下首台High-NA EUV光刻机

来源:快科技 作者:黑白 2025-03-13 12:41:23 我要评论

3月13日消息,据韩国媒体报道,三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机EXE:5000,价值高达5000亿韩

3月13日消息,据韩国媒体报道,三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000,价值高达5000亿韩元(约合24.88亿元人民币)。

ASML是目前全球唯一能够提供此类设备的供应商,其通过增大透镜和反射镜尺寸,将数值孔径(NA)从0.33提升至0.55,显著提高了光刻精度,是2nm及以下制程的必备工具。

与现有EUV设备相比,High-NA EUV能够实现更窄的电路线宽,从而降低功耗并提升数据处理速度。

三星电子计划在完成设备安装后,全面构建2nm工艺生态系统,三星晶圆代工业务部负责人强调,尽管公司在GAA工艺转换上领先,但在商业化方面仍需加速,2nm工艺的快速量产是其首要任务。

TrendForce数据显示,三星在2023年第四季度全球晶圆代工市场排名第二,但其收入环比下降1.4%,市场份额仅为8.1%。

相比之下,台积电以67%的市场份额保持领先地位,此次引入High-NA EUV光刻机,三星有望加速其在先进制程上的商业化进程。

 

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